Wybrane właściwości wysokoczęstotliwościowych inicjatorów i stabilizatorów łuku elektrycznego urządzeń spawalniczych. Cz. 2. Urządzenia z łukami ściskanymi
W drugiej części artykułu przeglądowego opisano ogólne cechy budowy i działania wybranych plazmotronów łukowych stosowanych w przemyśle. Ze względu na występujące między nimi różnice konstrukcyjne i eksploatacyjne oddzielnie rozpatrzono układy zasilania plazmotronów z łukiem wewnętrznym i z łukiem częściowo zewnętrznym. Szczególną uwagę zwrócono na struktury układów elektrycznych służących do inicjacji wyładowań łukowych. Ponieważ eksploatacji plazmotronów z łukiem częściowo zewnętrznym często towarzyszy powstawanie łuku podwójnego, to opisano środki i metody przeznaczone do zapobiegania temu szkodliwemu zjawisku. Przedstawiono także wybrane właściwości technologiczne plazmotronów i mikroplazmotronów do spajania, cięcia, napawania i hartowania.